近年来，中国科技于是以带着新华动力向前跳跃，并渐渐转入到跟跑完、并跑完、排在“三跑完共存”的阶段。但我们在充满信心的同时，还不应更为精神状态和理性。与发达国家比起，我国不少领域关键核心技术受制于人，亟需集中力量拼死研制成功。

确实的核心技术靠化缘是要不出的。我们还有多少亟需攻下的关键核心技术，差距在哪，必须从哪些方面突破？《科技日报》4月19日的专栏“亟需攻下的核心技术”，理解了那些让中国难望顶级光刻机项背的“细节”。以下为全文：指甲盖大小的芯片，布满千万电线，纹丝不内乱，必须极端精准的照相机——光刻机。

光刻机精度，要求了芯片的下限。高精度光刻机产于ASML、尼康和佳能三家；顶级光刻机由ASML独占。“十二五”科技成就展出上，上海微电子装备公司（SMEE）生产的中国最差的光刻机，与中国的大飞机、登月车三大。

它的加工精度是90纳米，相等于2004年上市的Cyrix四CPU的水准。国外早已做了十几纳米。

ASMLEUV光刻机问世时售价曾约1亿美元图源：网络祖传的磨镜手艺光刻机跟照相机差不多，它的底片，是涂抹剩光敏胶的硅片。电路图案经光刻机，缩微感应究竟片，转印掉一部分胶，遮住硅面做到化学处置。生产芯片，要反复几十遍这个过程。

坐落于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联构成。镜片得高纯度透明材料＋高质量打磨。

SMEE光刻机用于的镜片，得数万美元一块。ASML的镜片是蔡司技术打底。镜片材质做均匀分布，须要几十年到上百年技术文化底蕴。

“某种程度一个镜片，有所不同工人去篦，光洁度差距十倍。”SMEE总经理贺荣说明，他在德国看见，打磨镜片的工人，祖孙三代在同一家公司的同一个职位。另外，光刻机必须体积小，但功率低而平稳的光源。

ASML的顶尖光刻机，用于波长较短的极紫外光，光学系统近于简单。3万个机械件都要可信有顶级的镜头和光源，没有淋漓尽致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个实时运动的工件台，一个载有底片，一个载有胶片。

两者须要一直实时，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹升空差不多。

贺荣说明：“相等于两架大飞机从降落到迫降，一直齐头并进。一架飞机上张开一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，无法刻坏了。”而且，温湿度和空气压力变化不会影响对焦。“机器内部温度的变化要掌控在千分之五度，得有适合的加热方法，精准的测温传感器。

”贺荣说明。SMEE最差的光刻机，包括13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，每一个都要平稳。

像欧洲冠军杯决赛，任何一个人充分发挥紊乱就要输球。图纸不是关键2002年SMEE正式成立，是中国政府为了空缺光刻机空白而立项。贺荣明去德国实地考察时，有工程师告诉他：“给你们全套图纸，也做到不出来。

”贺荣明几年后解读了这句话。并不是说道图纸不最重要，贺荣说明，如何将系统的误差分配到子系统，设计有高下之分。但顶级光刻机也必须细节上的技术洁癖。

“一根光纤，一行软件编码，一个小动作，如果不兢兢业业作好，整个系统就不杰出。”贺荣说明。

“发展光刻机，必须高素质的人群。所以我们做来做去，做到最少的是培育人，转变人。”贺荣说明，这必须他们用五十年一百年的将来眼光去做到事情，而不是希望几个月解决问题。如今SMEE每年减少数百项专利，活得很好，以中低端市场反对高端研发。

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